电子行业超纯水设备的电阻率大于18MΩ*cm或挨近18.3MΩ*cm值，其几乎不含导电介质，并且水中不离解的胶体物质、气体及有机物也被去除至很低的程度。目前，电子行业超纯水设备设备首要应用于微电子、电力、光电、光伏、半导体、实验室以及其他领域。

　　为满足用户用水需求，继续获得符合要求的产水水质，尽可能减少各环节的水质污染，电子行业超纯水设备体系在工艺规划上大致分为预处理、反渗透、离子交换和终端处理四大过程。预处理体系将原水初级净化，再设有反渗透（RO）生产纯水，接连电去离子（EDI）设备或离子交换混床体系产水电子行业超纯水设备，在终端处理及输送环节选用抛光混床或者终端超滤方式有效去除各种剩余杂质，确保产水的高纯水契合相应的规范。

　　电子行业超纯水设备干流的处理工艺包含以下三种：

　　（1）预处理（多介质过滤器+活性炭过滤器）→单级RO→再生混床→抛光混床

　　（2）预处理（多介质过滤器+软化器+活性炭过滤器）→单级RO→EDI→抛光混床

　　（3）预处理（叠片式过滤器+超滤）→双级RO→EDI→抛光混床→终端超滤

　　其中，多介质过滤器内合理填充精制石英砂等填料，首要作用是将原水中的悬浮物及一些杂质去除；

　　活性炭过滤器具有滤色、除臭、吸附有机物杂质等作用，可以去除水中游离余氯，使得预处理出水契合RO膜的进水水质要求；

　　软化器选用可再生型阳离子交换树脂为滤料，首要作用是下降原水的硬度，避免反渗透膜的外表结垢，另外，可根据运转时间使用氯化钠对离子交换树脂进行再生；

　　超滤使用多孔性不对称的膜结构，以膜两侧压力差为驱动力，将溶液别离，以提高出水水质，产水SDI小于3；

　　反渗透体系（RO）使用膜的选择透过性的特点，以膜两侧压力差的驱动力。其作业原理为进水经过产水流道流入中心管，在一端流出汇入产水管道。在膜的进水侧将进水中杂质进行截留，然后在浓水出水端流出，然后起到别离净化的效果。

　　接连电去离子（EDI）一般安装在反渗透体系（RO）后，对RO产水进行二次除盐。EDI技能是电渗析和离子交换树脂除盐技能相结合的新型别离技能，可接连运作作业，不需要加酸碱，没有化学再生，而且它的体积较小，操作和办理便利，运转费用低。

　　抛光混床一般设在工艺结尾，使用的是没有化学物质分出的核子级树脂，可将纯水中剩余的微量带电离子及弱电解质有效去除，使得产水水质可以契合电子行业超纯水设备的规范。

　　终端超滤用在终端供水环节，相当于纯化水系统的“防火墙”，将水中剩余的杂质去除，产水颗粒（＞0.05μm）＜1个/ml。

　　电子行业超纯水设备设备具有自动化程度高、出水质量高、占地面积小、资金投入合理等特点，深受欢迎。